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单晶圆光罩清洗机
适用于行业主流的6”, 7", 9" 光罩Mask清洗。
设备配备多级精密过滤系统，有效保证洁净等级，满足制程需求Class10/100。
采用离子气吹工艺，可实现360°清洗，保证制程的高精度清洗需求。
支持EAP/MES/AMHS主流通讯协议，SECS/GEM200/300支持OHT/PGV/AGV设备对接符合SEMIS2、CE半导体制造标准及认证。
单晶圆光罩清洗机
产品特点
01
密封式独立清洗腔体，清洗效果更好，洁净度更高。
02
自动Load Port和主流E84传感器，对接OHT天车，稳定、高效。
03
各腔体可单独控制运行，互不干涉。
应用范围
技术参数
设备尺寸
2560mm(L)×2440mm(W)×1890mm(H)
（含脚杯+排气口高度）仅供参考
应用范围
6", 7", 9" 光罩Mask
夹具类型
边缘多点夹持Edge gripper
净重
1500Kg
主轴转速
0~1500rpm
WPH
15pcs/Chamber（6“ Mask）
主轴旋转方式
正转/反转
电源供应
三相五线AC380V 50Hz
噪音
＜75db
主要材质
机身：SUS304 管路：PFA
公海555000
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